碳化钽涂层设备及工艺
专业从事碳化硅气相沉积、碳化钽气相沉积设备制造;工装结构图纸设计;CVD镀膜工艺研发,涂层纯度6N以上,涂层均匀性90%,工艺速率2-100um/h可选工艺;基材镀膜碳化硅涂层,碳化钽涂层代加工等。
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